GA05型铜基底单层石墨烯(60 mm x 40 mm) CVD铜基单层石墨烯 铜基单层石墨烯膜
单层石墨烯膜
描述：
● 生长方法：CVD生长
● 外观(颜色)：透明
● 光透过率：> 97%
● 外观(形式)：薄膜
● 覆盖率：> 95%
● 石墨烯层数：1层
● 厚度：0.345 nm
● 氧化铝基底FET电子迁移率：2000 cm2/Vs
● 氧化硅/硅基底霍尔电子迁移率：4000 cm2/Vs
● 氧化硅/硅基底方阻：450±40 Ω／□
● 晶粒尺寸：达到10μm
● GA05型CVD铜基底单层石墨烯薄膜的尺寸：60mmX40mm。
铜箔衬底：
● 铜箔厚度：18μm
应用领域：
Graphene research, Electronics, Aerospace industry, MEMS and NEMS, Microactuators, Conductive coatings
● GA05型铜基底单层石墨烯的拉曼光谱：
● GA05型铜基底单层石墨烯的HRTEM图像
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